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Surrey NanoSystems公司推出多功能碳纳米...
新闻出处:电子生产设备资讯网 发布时间:2007-11-15
    设备厂商Surrey NanoSystems计划在Nanotech 2007上首度推出被其认为是迄今生产出的最先进的多功能碳纳米管生长设备NanoGrowth 1000n。据称,该款设备同时具备CVD和PECVD工艺能力,并且能够在450至1000摄氏度温度范围甚至更低的温度实现碳纳米管的生长。 
    据称,精密制造和结构可重复性原则是该款设备构架的核心,是Surrey NanoSystems的工程师多年科研与商用薄膜设备制造经验的结晶。该设备以质量为导向的构架中还采用了超高纯度气体输送系统和灵活的闭环控制系统,使用户能够定义目标容差以在工艺的各个阶段获得高水平的可重复性。
    此外,这块设备高度模块化的特性亦使得其配置能够方便地扩展,从而满足当前以及未来的需要。其丰富的可选配置包括ICP(感应耦合等离子)模块以及用于催化剂淀积的双溅射源等等。今后该公司还将推出自动化水输送装入/锁定系统、集成化刻蚀模块以及用于硅基材料薄膜淀积的PECVD模块。
    Surrey NanoSystems 公司首席科学家Guan Yow Chen博士表示,这款新产品满足了纳米材料研究人员对稳定性和可重复性的需求,其灵活性亦能适应不同研发人员的开发想法,而设备内在的模块化特性则使用户能够对纳米材料合成的各个方面——从催化剂生长和最终材料处理——进行自动控制该设备还为用户提供“ready-to-use(即用型)”程序,以软件模版的形式提供纳米材料生长“配方”。用户可根据自己的应用方便地调整这一上述模版。
    Surrey NanoSystems新的碳纳米管生长设备采用其独特的触摸屏SCADA型(supervisory control and data acquisition,监督控制与数据获取)软件进行控制。这套软件是该公司经过7年多在高端薄膜淀积设备上开发和完善的成果,能够提供优异的用户友好操作界面,以及设备的模拟显示等图形技术,从而使得控制工艺的各个阶段变得简单易行。
    Surrey NanoSystems认为该款设备能够使纳米材料研究人员缩短技术商用化所需的时间,因为为这一设备设计灵活的构架的主要目的之一即是使碳纳米管和其他纳米线在硅芯片上的商用成为可能。
    这款新设备所采用的专利技术来源于英国高校University of Surrey的先进技术研究所(Advanced Technology Institute,以下简称ATI)的突破性研究工作,并已得到现场应用的证明。
    Surrey NanoSystems是一家英国纳米材料生长设备供应商,其员工和IP组合主要来自ATI和另一家领先的薄膜淀积系统制造商(CEVP),并得到IP Group PLC的注资。
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